芯片制造科技:用水刻机代替光刻机是否可行?

2022-08-19 18:19

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原创来自:方法研究

光刻机是目前国产芯片制造的最大障碍

大家都知道高端光刻机仅有荷兰ASML公司,别无分号。而且因为美国的压力,ASML无法卖光刻机给中国大陆,近期随着美国对华为断供政策,受制于美方压力,制裁华为缓冲期一过,各原材料及芯片供应厂商也只能断供华为,华为空有高端CPU设计图纸,却无法制造出CPU芯片,目前最大的障碍是芯片制造的光刻环节。

光刻机的精度已经快接近极限

光的波长是有范围的。加上半导体的量子极限是3nm,再小了对做半导体没有意义了。目前ASML的光刻机可以实现7nm量产。纯国产光刻机只有28nm的精度。

专业人士认为我们在光刻领域落后ASML至少10年,有没有办法绕开光刻技术?个人觉得水刻理论上也是行得通的,条件也是成熟的。

水刻机做芯片求教

条件:

(1)水分子直径大约0.4nm。

(2)反渗透膜已经是很成熟的产品,此膜可以做到与水分子相近的孔径,凯时互联网

设想:

(1)将CPU集成电路图,做成胶片,但这个胶片不是透光的,而是透水的,有线路部分是透水的,只有水分子可以穿透它并附于晶圆表面,水分子数量要注意控制。通过压力的方式直接使水分子穿透反渗透膜,附于晶圆上。

(2)电子板上有特殊胶,与光刻胶作用相似,但只与水发生反应。没有水分子的地方,不会反应。甚至可以直接将胶通过反渗透膜涂抹在晶圆上。

请教专家,这样是不是可靠?

我不是这方面专家,只是一个热心的中国人,如果按原理分析,可以做出1nm左右的电路了,是否可行,欢迎大家讨论。

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